石蕊

作品数：4被引量：10H指数：2
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供职机构：清华大学信息科学技术学院计算机科学与技术系更多>>
发文主题：集成电路成品率掩模版掩模光刻更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《Journal of Semiconductors》《计算机辅助设计与图形学学报》更多>>
所获基金：国家自然科学基金清华大学校科研和教改项目更多>>
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光学邻近效应矫正(OPC)技术及其应用被引量：3
《中国科学（E辑）》2007年第12期1607-1619,共13页蔡懿慈 周强 洪先龙 石蕊 王旸 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60476014)
随着集成电路设计和制造进入超深亚微米(VDSM)阶段,特征尺寸已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波波长,因此光刻过程中,由于光的衍射和干涉现象,实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差,光刻中的这种误差直...
关键词：光学邻近效应矫正 基于规则 基于模型 版图 集成电路 
成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法被引量：5
《Journal of Semiconductors》2004年第3期351-357,共7页王旸 蔡懿慈 石蕊 洪先龙 
提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法 ,它是一种基于模型的光学邻近效应方法 .该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点 ,适合于版图中关键图形的矫正 .实验表明 ,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的...
关键词：掩模 光刻 基于模型的光学邻近矫正 
对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用被引量：1
《计算机辅助设计与图形学学报》2003年第3期255-258,共4页杨长旗 洪先龙 吴为民 蔡懿慈 石蕊 
清华大学基础研究基金 ( 2 0 0 1110 0 2 )资助
随着超大规模集成电路的发展 ,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长 由于光的衍射和干涉现象 ,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差 为尽量消除这种误差 ,常用的两种方法是OPC和PSM 提出一种基于对象...
关键词：掩膜光学临近矫正 对象模型 集成电路 
Important Works About Rules in Rules-Based Optical Proximity Correction被引量：2
《Journal of Semiconductors》2002年第7期701-706,共6页石蕊 蔡懿慈 洪先龙 吴为民 杨长旗 
Considering the efficiency and veracity of rules based optical proximity correction (OPC),the importance of rules in rules based OPC is pointed out.And how to select,to construct and to apply more concise and practi...
关键词：optical lithography optical proximity correction rules  base 
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