检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
出 处:《微纳电子技术》2005年第7期317-317,共1页Micronanoelectronic Technology
摘 要:在不同晶体管之间需要更好的绝缘,以避免电流泄漏。在90nm工艺之后,不同晶体管的间距变得非常之短,电流泄漏现象变得异常严重。虽然采用SOI可以有效隔断各电极向衬底流动的漏电流,使其只能够通过晶体管流动,但它对于同级晶体管之间的阻隔效果并不理想;继续用二氧化硅做为晶体管绝缘层也是不可取的。用高k值的氧化物材料来制造晶体管的栅极,
关 键 词:高K材料 术语释义 名词 90nm工艺 晶体管 氧化物材料 电流泄漏 泄漏现象 二氧化硅 漏电流 SOI 绝缘层 流动 衬底 栅极
分 类 号:TN386.1[电子电信—物理电子学] TS871.1[轻工技术与工程]
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