反应离子束刻蚀闪耀光栅技术  

TECHNOLOGY OF REACTIVE ION BEAM ETCHING OF BLAZED GRATINGS

作　　者：傅新定[1] 方红丽[1] 陈国明[1] 邹世昌[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海冶金研究所

出　　处：《应用科学学报》1989年第3期260-262,共3页Journal of Applied Sciences

摘　　要：一、引言反应离子束刻蚀是在离子束刻蚀基础上发展起来的具有广泛应用前景的微细加工技术.近年来,已被用来制作全息闪耀光栅.二、实用全息闪耀光栅反应离子束刻蚀全息闪耀光栅制造工艺请参阅文献[2],在石英基板上涂美国Shipley公司AZ1350胶的感光灵敏度峰值为260nm处,并随波长增长而感光灵敏度降低.现有氦镉激光器产生的441.6nm波长或氩离子激光器产生的457.9nm波长均可使用,但较理想的是325nm或更短的接近峰值波长.刻蚀装置采用冶金所自制的反应离子束刻蚀镀膜装置.选择合适的刻蚀工艺参数,在涂有浮雕光栅掩膜条纹的石英上进行反应离子束刻蚀,已刻蚀出国内第一批实用石英全息闪耀光栅,光栅面积为45×45mm^2,空间频率为1200l/mm.经测试:一级衍射效率为75%,一级波面象差λ/8,杂散光2.5×10^(-7),无鬼线,分辨率达理论值87%.所选择的刻蚀工艺稳定重复,成品率高.The holographic blazed gratings have been microfabrieated on a quartz substrate by using the relief grating mask and the reactive ion beam etching technique which has both the advantages of reactive ion beam etching and ion beam milling.The diffraction efficiency of the first etched gratings is up to 75% with an area of 45×45mm2 and a space frequency of 1200 lines/mm.

关 键 词：闪耀 光栅 反应离子束 刻蚀 

分 类 号：TN105[电子电信—物理电子学]