铁电微电容的制作工艺  

Fabrication Process of Ferroelectric Microcapacitors

作　　者：曹广军[1] 吴正元[1] 于军[1] 周文丽 陈萍丽 谢基凡[1] 

机构地区：[1]华中理工大学固体电子学系

出　　处：《压电与声光》1995年第1期33-35,共3页Piezoelectrics & Acoustooptics

基　　金："八六.三"攻关项目

摘　　要：研究了铁电电容的制作工艺，摸索了Ｐ（Ｌ）铁电薄膜及上、下电极材料的微细图形加工工艺条件，总结出切实可行的工艺流程及相应的工艺条件。he fabrication process of microcapacitors is studied.In order to determine the fea-sible process flow and technological condition, some experiments on chemical etching of P(L)ZT ferroelectric films and the top/bottom metal electrode are performed.

关 键 词：铁电薄膜 铁电电容 铁电材料 

分 类 号：TN384.05[电子电信—物理电子学] TN534.105