制版、光刻、腐蚀与掩模工艺  

出　　处：《电子科技文摘》2006年第5期27-28,共2页Sci.& Tech.Abstract

摘　　要：0611613 UV-LIGA双层微齿轮加工工艺研究[刊,中]／张晔／／微细加工技术．-2005,(4)．-69-75(D) 0611614 一种新型微小等离子体发生器[刊,中]／王海／／微细加工技术．-2005,(4)．-59-63(D)

关 键 词：掩模 微细加工技术 集成电路工艺 抗蚀剂 等离子体发生器 敏感元 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]