TiN/TiB_2纳米多层膜的共格外延生长  

Coherent epitaxial growth of TiN/TiB2 nano-multilayers

作　　者：戴嘉维[1] 岳建岭[2] 李戈扬[2] 

机构地区：[1]上海交通大学教育部高温材料及高温测试重点实验室,上海200030 [2]上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030

出　　处：《电子显微学报》2005年第4期275-275,共1页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：上海市专利技术再创新项目(No.03725052).

关 键 词：纳米多层膜 共格界面 外延生长 TIB2 TiN 超硬效应 纳米多层薄膜 调制周期 生长结构 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]