X射线超反射镜设计、制作与表征  

作　　者：王占山[1] 王风丽[1] 张众[1] 程鑫彬[1] 秦树基[1] 陈玲燕[1] 

机构地区：[1]同济大学精密光学工程技术研究所,同济大学物理系上海200092

出　　处：《中国科学（G辑）》2005年第5期499-512,共14页

基　　金：国家自然科学基金项目(批准号:60178023);上海市科技发展基金项目(批准号:0352nm090)资助

摘　　要：探讨了X射线波段超反射镜的设计,采用了周期膜堆作初始条件加单纯形局域优化和模拟退火全局优化方法,设计了工作能量为Cu的Kα(8.0keV)线的不同掠入射角和不同角度带宽的宽角度X射线超反射镜和8～25keV范围内不同掠入射角和不同能量带宽的宽带X射线超反射镜.同时,还系统研究了非周期多层膜超反射镜的制备工艺,解决了多层膜制备过程中遇到的一些工艺性问题和精确定标的问题,进行了不同膜层材料对组合的超反射镜制备实验,成功制备了相应的多层膜样品.利用高分辨率X射线衍射仪测量了样品的反射率,所得结果与设计值基本相符.

关 键 词：X射线 超反射镜 磁控溅射 多层膜 反射率 X射线超反射镜 设计值 全局优化方法 表征 制作 

分 类 号：TH741.4[机械工程—光学工程]