电子束曝光机激光工件台测量系统研究  

Measurement System of Laser Stage for E-BeamLithography Machine

作　　者：乔俊仙[1] 王肇志[1] 胡松[1] 余国彬[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所

出　　处：《电子工业专用设备》2005年第10期19-23,共5页Equipment for Electronic Products Manufacturing

基　　金：中国科学院知识创新工程重大项目资助(H2K0206)

摘　　要：由于电子束曝光机采用的修正技术,工件台的测量系统显得十分重要。介绍了电子束曝光机激光定位精密工件台的工作原理,其测量系统首次采用国际先进的HP5527双频激光干涉仪。对测量系统进行了详细的误差分析,在此基础上提出了系统误差的补偿方法。Measurement system of precision stage shows its important role for the correction technology of E-Beam lithography machine. The HP 5527 laser measurement system is used for the stage and the working principle is introduced. Based on the detailed error analysis the compensation method of systemic error is presented.

关 键 词：激光干涉仪 工件台 电子束曝光机 误差分析 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]