“晶圆清洗技术”研讨会成功举行  

出　　处：《集成电路应用》2005年第9期14-14,共1页Application of IC

摘　　要：由《半导体国际》举办的“晶圆清洗技术”研讨会不久前在上海成功举行。本次研讨会共吸引了超过180位相关领域的工程师和技术人员到场参加，涵盖了几乎所有中国大陆的晶圆制造厂，包括中芯国际、华虹NEC、宏力半导体、先进半导体、新进半导体等等，海力士（无锡）和和舰科技等公司也派代表专程赶来参加。同时，到场的听众还有来自封装测试公司、IC设计公司及科研单位的相关人员。

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分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学] TB4[一般工业技术]