双极型微波器件失效分析与改进  被引量:2

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作  者:孙英华[1] 李志国[1] 程尧海[1] 吉元[1] 张炜[1] 李学信[1] 穆德成 

机构地区:[1]北京工业大学电子工程系,北京东方晶体管厂

出  处:《半导体技术》1996年第2期28-32,共5页Semiconductor Technology

摘  要:针对浅结器件欧姆接触退化问题,利用3DG44、3DG86微波管进行研究分析,发现其EB结失效非常严重,并且结越浅对高温工艺越敏感,经SEM显微分析表明,失效机理为发射区处Al、Si的互扩散,Al离子进入发射区。将新型金属化系统Al/TIN/Ti用于实际器件,TiN有效地阻止了Al、Si的互扩散,其EB结特性明显改善,成品率和可靠性显著提高。

关 键 词:微波器件 欧姆接触 TiN阻挡层 失效 

分 类 号:TN385.05[电子电信—物理电子学]

 

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