等离子刻蚀  

Plasma Etching

作　　者：牛凯 徐宇新（审核） 

出　　处：《导航与控制》2005年第4期7-8,共2页Navigation and Control

摘　　要：等离子刻蚀可以采用几种不同的方式：以物理溅射方式进行的腐蚀，包括：溅射腐蚀和离子磨削；以及不同程度依赖化学反应（形成挥发或准挥发化合物）和物理效应的腐蚀，包括等离子腐蚀、反应离子刻蚀和反应离子束腐蚀等。

关 键 词：等离子刻蚀 等离子腐蚀 反应离子刻蚀 物理效应 化学反应 化合物 离子束 溅射 挥发 

分 类 号：TN405.982[电子电信—微电子学与固体电子学]