等离子刻蚀

作品数：71被引量：104H指数：5
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悬浮液等离子喷涂制备Y_(2)O_(3)涂层及耐等离子刻蚀性被引量：1
《无机材料学报》2024年第8期929-936,共8页马文 申喆 刘琪 高元明 白玉 李荣星 
内蒙古自然科学基金(2022MS05003,2021PT0008,JY20220041);内蒙古自治区高校创新科研团队项目(NMGIRT2319)。
随着高端芯片竞争的白热化,Y_(2)O_(3)涂层作为等离子体刻蚀工艺腔的重要组成部分,对其研究逐渐成为科研热点。利用悬浮液等离子喷涂(Suspension Plasma Spraying,SPS)在铝合金表面制备Y_(2)O_(3)涂层,研究了不同工艺参数对涂层的物相...
关键词：悬浮液等离子喷涂 Y_(2)O_(3)涂层 孔隙率 耐等离子刻蚀性 
表面形貌对TB8钛合金/环氧树脂粘结性能的影响
《表面技术》2022年第6期382-389,共8页刘斌 谢兰生 陈明和 
目的通过在基体表面构建出不同的微观结构,提升环氧树脂与钛合金的粘结强度。方法采用等离子刻蚀设备,调节气体流量、处理时间、RF功率对TB8钛合金样品进行处理,并对处理过的样品进行单搭接接头制备。利用扫描电子显微镜对等离子刻蚀前...
关键词：TB8钛合金 等离子刻蚀 表面形貌 化学成分 润湿性 粘结性能 
改善硬盘磁头气垫面边缘残留物的研究
《机电产品开发与创新》2021年第4期42-43,共2页金则清 
本文针对公司电脑硬盘部件磁头的ABS面(气垫面)制造过程中,等离子刻蚀及清洗工艺完成后在ABS面图形边缘发现残留物(小突起,Fencing)的问题,进行了试验分析研究并找到了解决问题的办法。在对淀积物残留物形成机理的研究基础上结合对光刻...
关键词：ABS面 残留物 等离子刻蚀 正性光刻胶 
SU-8光刻胶去胶工艺研究被引量：5
《微电子学》2020年第6期910-913,共4页张笛 王英 瞿敏妮 孔路瑶 程秀兰 
科技部重点专项(2016YFB0200205)。
SU-8光刻胶因具有良好的机械耐久性、聚合物水密性、介电性能、生物兼容性和抗化学腐蚀性而被广泛用于MEMS器件、生物医学和芯片封装等领域。现有制作工艺中,在不损伤器件的同时完全去除和剥离SU-8光刻胶仍是一个难题。文章研究了一种基...
关键词：SU-8光刻胶 O2/CF4 等离子刻蚀 去胶 
基于金属辅助化学腐蚀的大高宽比硅纳米结构制备
《微纳电子技术》2020年第12期1012-1016,1022,共6页薛焱文 杨立伟 王冠亚 牛洁斌 刘宇 李海亮 
国家重点研发计划项目(2017YFA0206002);国家自然科学基金资助项目(61804169)。
为了获得大高宽比的硅纳米结构,结合电子束光刻和等离子刻蚀方法制备厚度为5 nm/20 nm的Ti/Au微纳结构,然后以氢氟酸、去离子水和双氧水作为腐蚀液,利用各向异性金属辅助化学腐蚀制备大高宽比硅纳米结构,并进行了实验验证。研究了双氧...
关键词：金属辅助化学腐蚀 电子束光刻 等离子刻蚀 硅纳米结构 大高宽比 
圆片等离子划片工艺及其优势
《电子与封装》2020年第2期8-12,共5页肖汉武 
等离子划片是近年来兴起的一项新型圆片划片工艺。与传统的刀片划片、激光划片等工艺不同,该工艺技术可以同步完成一张圆片上所有芯片的划片,生产效率明显提升,是对现有划片工艺的一个颠覆。介绍了圆片划片工艺的工作原理、技术特点及...
关键词：等离子刻蚀 等离子划片 刀片划片 激光划片 多项目圆片 
CF4和O2等离子体刻蚀改善氮化硅薄膜形貌研究被引量：5
《集成电路应用》2019年第7期40-43,共4页魏育才 
福建省科技型企业技术创新课题项目
探讨PA工艺因介电层高低差发生金属线路内部断裂的改善方案。以不同光刻条件和刻蚀条件为基础,对介电层(Si3N4)进行ICP刻蚀。研究表明,增加曝光焦距,刻蚀完的侧壁倾斜角改变不大;而光刻胶对氮化硅的刻蚀选择比越高,刻蚀完氮化硅侧壁斜...
关键词：CF4和O2等离子刻蚀 ICP刻蚀 氮化硅刻蚀 掩膜退缩 PA工艺 
(100)/(111)面金刚石膜抗氧等离子刻蚀能力被引量：2
《航空材料学报》2019年第2期55-60,共6页孙祁 汪建华 程翀 陈祥磊 吴荣俊 刘单 祝娇 
使用微波等离子体技术(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)对膜厚100μm的(100)和(111)晶面金刚石膜进行刻蚀处理,研究其抗氧等离子体的行为。结果表明:(100)晶面刻蚀首先发生在晶棱晶界处,而(111)晶面金刚石的刻蚀首...
关键词：金刚石膜 (100)晶面 (111)晶面 氧等离子体 刻蚀 
液态金属汞在硅片表面的润湿行为研究被引量：1
《真空科学与技术学报》2018年第9期817-820,共4页李中杨 马国鹭 曾国英 
国家自然科学基金项目(No.61505169);西南科技大学研究生创新基金(No.18ycx109)
针对常温下的液体在固体表面的润湿行为研究。以液态金属汞为研究对象,采用真空等离子体刻蚀工艺制备不同表面形貌的硅片,研究不同硅片的润湿行为,并探究了液滴体积对润湿性的影响。利用金相电子显微镜、白光干涉三维形貌仪以及接触角...
关键词：等离子刻蚀 表面粗糙度 滴液体积 接触角 润湿行为 
小尺寸传感应用的高电感平面线圈的设计和制造
《磁性元件与电源》2018年第7期145-147,152,共4页J. Poliakine Y. Civet Y. Perriarda 
这项工作致力于设计和制造具有大量匝数（MOO）和高达32μH自感的小型平面线圈，适用于增强电感式传感器的性能。首先，改良后的惠勒公式用于确定最佳匝数以实现最高电感。然后，介绍一种简单在硅衬底上溅射铝的基于感应耦合等离子体（...
关键词：平面线圈 电感式传感器 铝加工 等离子刻蚀 电感 
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