王冠亚

作品数：2被引量：4H指数：1
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：衍射光栅大高宽比电子束光刻芯片入射光更多>>
发文领域：电子电信理学文化科学自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《光学精密工程》《微纳电子技术》更多>>
所获基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
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基于金属辅助化学腐蚀的大高宽比硅纳米结构制备
《微纳电子技术》2020年第12期1012-1016,1022,共6页薛焱文 杨立伟 王冠亚 牛洁斌 刘宇 李海亮 
国家重点研发计划项目(2017YFA0206002);国家自然科学基金资助项目(61804169)。
为了获得大高宽比的硅纳米结构,结合电子束光刻和等离子刻蚀方法制备厚度为5 nm/20 nm的Ti/Au微纳结构,然后以氢氟酸、去离子水和双氧水作为腐蚀液,利用各向异性金属辅助化学腐蚀制备大高宽比硅纳米结构,并进行了实验验证。研究了双氧...
关键词：金属辅助化学腐蚀 电子束光刻 等离子刻蚀 硅纳米结构 大高宽比 
大高宽比硬X射线波带片制作及聚焦测试被引量：4
《光学精密工程》2017年第11期2803-2809,共7页李海亮 史丽娜 牛洁斌 王冠亚 谢常青 
应用光学国家重点实验室开放基金资助项目(No.Y6YS053001);国家自然科学基金资助项目(No.61275170)
为得到同步辐射光源硬X射线波段(>2keV)需要的高宽比高分辨率波带片,本文利用高加速电压(100kV)电子束光刻配合Si3N4镂空薄膜直写来减少背散射的方法,对硬X射线波带片制作技术进行了蒙特卡洛模拟和电子束光刻实验。模拟结果显示:Si_3N_...
关键词：硬X射线波带片 电子束光刻 大高宽比波带片 电子束光刻 镂空薄膜 
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