纳米压印模板需要高质量的检测技术  

作　　者：Aaron Hand 

机构地区：[1]Semiconductor Intemational

出　　处：《集成电路应用》2006年第3期13-13,共1页Application of IC

摘　　要：纳米压印光刻经学术和行业团体近十年的研究之后，已逐渐开始对半导体行业产生引导作用。简单地讲，纳米压印是把一个1×的模板压进一个柔性层，从而在衬底上制作图形。斯坦福大学的电子工程教授Fabian Pease说：“它引人注意之处是具有半导体行业现在非常感兴趣的分辨率，即远低于100nm的线条，而在这个范围内，如果无法用纳米压印光刻来实现，光学光刻将变得很昂贵。”

关 键 词：纳米压印 压印模板 检测技术 半导体行业 质量 压印光刻 斯坦福大学 电子工程 光学光刻 柔性层 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]