金刚石膜制备工艺对其应力-应变特性的影响  

Influences of Deposition Technologies on Stress-strain Properties of Thick Diamond Films

作　　者：白亦真[1] 吕宪义[2] 韩雪梅[2] 金曾孙[2] 吕天山[3] 白媛[4] 

机构地区：[1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 [2]吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春130012 [3]长春工业大学工商管理学院,长春130012 [4]辽宁工学院计算机科学与工程学院,辽宁省锦州121000

出　　处：《吉林大学学报（理学版）》2006年第5期784-786,共3页Journal of Jilin University:Science Edition

基　　金："863"计划新材料领域资助项目基金(批准号:2002AA325090)

摘　　要：研究了在直流热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜的工艺过程中,放电电流和甲烷浓度对金刚石膜应力-应变特性的影响规律.This paper focuses on the influences of the discharge current and methane concentration on the stress-strain properties of Chemical Vapor Deposition （CVD） thick diamond films. This has laid good foundations for the promotions of the qualities, especially the mechanical properties of thick diamond films.

关 键 词：化学气相沉积 金刚石膜 应力-应变 

分 类 号：O484.5[理学—固体物理]