用多光子光刻制作65nm聚合物结构  

作　　者：Aaron Hand 

机构地区：[1]Semiconductor International

出　　处：《集成电路应用》2007年第8期25-25,共1页Application of IC

摘　　要：常规光刻方法通过利用电路设计每一层的掩膜版来进行曝光和显影．从而形成图案。佐治亚理工学院（GeorgiaInstitute of Technology）的研究人员正在研究一种多光子光刻技术，不再需要掩膜版就可以制作出65nm的三维聚合物线条结构。

关 键 词：聚合物结构 光刻技术 多光子 制作 电路设计 研究人员 掩膜版 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]