相移掩模的制作  

PHASE-SHIFTING MASK FABRICATION

作　　者：冯伯儒[1] 陈宝钦[2] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所,成都610209 [2]中国科学院微电子中心,北京100029

出　　处：《微细加工技术》1997年第1期8-16,共9页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金;"微细加工光学技术国家实验室"基金

摘　　要：本文阐述相移掩模（PSM）技术研究中，常用的几种主要相移掩模制作方法，重点介绍了无铬PSM、Levenson交替型PSM、边缘PSM、亚分辨辅助PSM以及激光直写制作PSM的方法。In the paper described are some phase-shifting mask(PSM)fabrication pro-cesses and techniques commonly used in research of PSM technology,especiallychromeless PSM,Levenson PSM, rim PSM and sub-resolution auxiliary PSM.Finally,a PSM fabrication technique with laser direct-writing method is given.

关 键 词：光学曝光 相移掩模 掩模制造 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]