片内相位测量工具模拟光刻机  

作　　者：Alexander E.Braun 

出　　处：《集成电路应用》2007年第11期51-51,共1页Application of IC

摘　　要：采用特殊照明方式的高／超高数值孔径（NA）的193nm光刻机和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增，而业界又迫切需要通过精确的相位控制以达到必需的高成品率。

关 键 词：光刻机 相位移 测量工具 模拟 高数值孔径 光刻分辨率 照明方式 相位控制 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] P631.443[天文地球—地质矿产勘探]