光刻分辨率

作品数：15被引量：16H指数：3
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相关作者：张加勇杨富华罗先刚胡松冯伯儒更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院微电子研究所中芯国际集成电路制造(上海)有限公司中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
相关期刊：《光学学报》《半导体技术》《核技术》《微细加工技术》更多>>
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激光超衍射光刻原理与技术被引量：3
《激光与光电子学进展》2022年第9期470-492,共23页梁紫鑫 赵圆圆 段宣明 
广州市重点领域研发计划项目(202007010002);国家重点研发计划(2016YFA0200500)。
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴,未能突破光学衍射极限,是衍射极限附近的光刻技术。采用紫外、可见或近红外等长波长光源进行纳米光刻,必须突破光学衍射极限,实现超衍射光刻,研究和发...
关键词：光刻 超衍射 激光直写 投影光刻 非线性光学 光刻分辨率 光刻效率 
马里兰大学开发新型光阻剂有望实现纳米等级的光刻分辨率
《半导体信息》2011年第2期27-28,共2页沈熙磊 
美国马里兰大学(University of Maryland)的研究团队最近提出一种多光子光阻剂(multi-photon photoresists),能让可见光微影达到纳米等级的分辨率;通常微影分辨率是与曝光时间成反比。该团队新开发的多光子技术简称RAPID(Resolution
关键词：光阻 马里兰大学 多光子技术 MARYLAND 紫外光源 RAPID 成反比 激光聚焦 曝光时间 PHOTON 
光刻机投影物镜波像差检测技术研究新进展
《光学与光电技术》2011年第1期72-72,共1页
本刊讯光刻机投影物镜波像差是影响步进扫描投影光刻机性能的重要指标，直接影响光刻机成像质量、光刻分辨率以及关键尺寸均匀性等关键参数。随着分辨率增强技术的不断进步和发展，光刻机投影物镜的数值孔径（NA）正逐步逼近其制造极限...
关键词：投影光刻机 投影物镜 波像差 检测技术 分辨率增强技术 光刻分辨率 步进扫描 成像质量 
突破光学衍射极限,发展纳米光学和光子学材料及器件
《功能材料信息》2010年第5期16-20,共5页干福熹 
国家自然科学基金委(No.11054001)的支持
微电子学(Micro-electronics)已突破Moore定律,进入纳米电子学(Nano-electronics)时代。光子的传播速度(1012cm/s)比电子传播速度(109cm/s)快得多,纳米光学和光子学材料及器件的发展正是迎合这种快速和高密度信息技术的需求。先进的纳...
关键词：光子学材料 光子学器件 纳米光学 衍射极限 超分辨率技术 Moore定律 光刻分辨率 微电子学 
表面等离子体透射增强提高光刻分辨率的模拟
《微纳电子技术》2010年第4期253-256,共4页朱明轩 李海华 王庆康 
国家自然科学基金资助项目(60808014);上海市科委纳米专项资助项目(0852nm06600)
讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形...
关键词：表面等离子体激元 纳米光刻 FDTD方法 光刻分辨率 光栅 
基于空间像的光刻机投影物镜波像差在线检测技术新进展
《光学与光电技术》2009年第6期96-96,共1页
本刊讯 波像差直接影响光刻机成像质量、光刻分辨率以及关键尺寸（CD）均匀性等光刻技术指标，是光刻机中最关键的检测指标之一，可以用Zernike多项式及其系数来表征。武汉光电国家实验室光电材料与微纳制造研究部刘世元教授领导的纳米...
关键词：在线检测技术 光刻机 波像差 投影物镜 ZERNIKE多项式 空间 光电材料 光刻分辨率 
片内相位测量工具模拟光刻机
《集成电路应用》2007年第11期51-51,共1页Alexander E.Braun 
采用特殊照明方式的高／超高数值孔径（NA）的193nm光刻机和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增，而业界又迫切需要通过精确的相位控制以达到必需的高成品率。
关键词：光刻机 相位移 测量工具 模拟 高数值孔径 光刻分辨率 照明方式 相位控制 
用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究被引量：1
《半导体技术》2005年第9期24-27,共4页王国雄 王雪洁 
国家自然基金资助项目(9 0 2 0 7 0 0 2 );国家高新技术研究发展计划资助项目(2 0 0 2 A A 1 Z 1 4 6 0 )
通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系数具体计算过程。建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所...
关键词：光刻仿真 分辨率提高技术 光学成像 
50nm及50nm以下同步辐射X射线光刻光束线设计被引量：1
《核技术》2004年第5期321-324,共4页谢常青 陈大鹏 李兵 叶甜春 伊福廷 彭良强 韩勇 张菊芳 
X射线光刻相对于其他下一代光刻技术而言有许多优点,比如其工艺宽容度大、成品率高、景深大、曝光视场大、成本低等,更为重要的是,其技术已经比较成熟。对于 100nm 同步辐射 X 射线光刻系统而言,它采用的波长通常为 0.7—1.0nm,而当光...
关键词：X射线光刻 同步辐射 束衍生法 光刻分辨率 
部分相干分数域滤波改善光刻分辨率新方法被引量：3
《光子学报》2003年第7期892-895,共4页杜惊雷 张怡霄 杨静 刘世杰 肖啸 郭永康 杜春雷 
国家自然科学基金 (6 990 70 0 3);微细加工光学技术国家重点实验室的资助
基于部分相干成像和分数傅里叶变换 ,提出在投影光刻系统中 ,利用分数域滤波改善光刻图形质量的新方法 理论和模拟分析表明 :在曝光成像系统中的适当位置加入分数域滤波器 ,能增强滤波操作的灵活性和效果 ,可更有效地改善光刻图形质量 。
关键词：分数傅里叶域滤波 光学光刻 部分相干成像 瞳孔滤波 
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