高k材料/金属栅电极迈向大规模量产  

作　　者：Reza Arghavani Gary Miner Melody Agustin 

机构地区：[1]Applied Materials Inc

出　　处：《集成电路应用》2008年第1期28-32,39,共6页Application of IC

摘　　要：到了45纳米技术节点,高介电常数绝缘材料和金属栅电极将被用于制造逻辑电路器件。而采用高金属功函数和能隙工程电荷陷阱的闪存也能从这些项技术中获益。

关 键 词：栅电极 金属 高K材料 模量 技术节点 高介电常数 电路器件 绝缘材料 

分 类 号：TN386[电子电信—物理电子学] TG174.445[金属学及工艺—金属表面处理]