微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置的研究进展  

THE DEVELOPMENT OF APPARATUS TO GROW MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DIAMOND FILMS

作　　者：黄建良[1] 汪建华[1] 满卫东[1] 

机构地区：[1]武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北武汉430073

出　　处：《真空与低温》2008年第1期1-5,共5页Vacuum and Cryogenics

基　　金：国家计委新材料领域重大专项项目([2001]475号)资助

摘　　要：综述了各种微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)金刚石膜装置的结构及工作原理,并对它们各自的优缺点做了比较分析;基于MPCVD金刚石膜装置的发展现状,构想设计了一种新型高效的大功率大面积快速沉积CVD金刚石膜装置,并对其可行性做了初步分析研究。An overview on structure and work principium of various apparatus to grow microwave plasma chemical vapor deposition diamond films and also compare and analyze their virtue and flaw separately;Based on these actuality, it design a new apparatus to rapidly grow chemical vapor deposition diamond fdms under large power and area,and approximately analyze the feasibility of this apparatus.

关 键 词：金刚石膜 微波 化学气相沉积 装置 

分 类 号：TB43[一般工业技术] O643.131[理学—物理化学]