步入深亚微米的互连技术 《半导体国际》互连技术在线研讨会  

出　　处：《集成电路应用》2008年第7期5-5,共1页Application of IC

摘　　要：半导体产业发展至今，大部分时间内AI互连技术都扮演了极为重要的角色，铝材料和SiO2一直作为制造集成电路中的微连线或配线；0．13微米以下的设计标准中，采用铝微连线制造的器件开始在可靠性方面出现问题．铜互连工艺应运而生。基于双大马士革的Cu工艺、高／低K介质材料等已成为业界热门话题，进一步改善互连性能的需求，推动今后互连技术的发展。集成电路技术的进一步发展对互连性能提出更高的要求。

关 键 词：互连技术 深亚微米 《半导体国际》 集成电路技术 在线 互连工艺 半导体产业 SiO2 

分 类 号：TN402[电子电信—微电子学与固体电子学] TP311.13[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]