亚半微米投影光刻的自动对准技术  

作　　者：程建瑞[1] 

机构地区：[1]电子工业部第四十五研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1997年第4期17-22,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：主要介绍了国外用于生产型亚半微米分步投影曝光机的几种自动对准技术。通过分析对比，指出了相位光栅自动对准技术是我所研制下一代分步曝光机最具吸引力的方案。

关 键 词：自动对准 光刻 分步投影曝光机 半导体器件 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]