罗门哈斯公司推出新的ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第9期69-69,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：罗门哈斯电子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技术事业部（CMP Technologies）是全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术领域的领导者和创新者。该部门目前面向高级Cu／low—k材料互连应用产品推出了ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案。ACuPLANE系统将罗门哈斯的EcoVision4000化学机械研磨垫和ACuPLANE5000系列研磨液结合起来，

关 键 词：罗门哈斯公司 CMP 阻挡层 罗门哈斯电子材料公司 化学机械研磨 铜 研磨技术 半导体行业 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学] F416.7[经济管理—产业经济]