Mapper向台积电发货电子束光刻系统 用于22nm节点  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第10期67-68,共2页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：MapperLithography日前表示，公司已经向台积电（TSMC）发货其首套300mm电子束（e．beam）无掩模光刻工具，用于22nm工艺研发和器件原型制作。

关 键 词：光刻系统 MAPPER 电子束 节点 原型制作 无掩模 器件 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] S771.8[农业科学—森林工程]