SUSS光刻机实现大面积纳米压印光刻  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第10期77-77,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：SUSS Micro Tec，全球领先的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商，于日前宣布，其手动光刻机，外加一个纳米压印的组件，即可对大面积图形重复进行亚50nm的压印。

关 键 词：纳米压印光刻 光刻机 面积 MICRO 设备供应商 MEMS TEC 封装 

分 类 号：TN305.93[电子电信—物理电子学] TN305.7