磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用  

Application of Magnetic Field in Direct Coupler Microwave Plasma CVD Diamond Film Device

作　　者：杜康[1] 徐伟[1] 吴智量[1] 贺中信[1] 彭军[1] 

机构地区：[1]广州大学物理与电子工程学院,广东广州510006

出　　处：《纳米科技》2009年第2期29-32,共4页

基　　金：基金项目：广州市属高校科技计划项目（62003）

摘　　要：在自行设计出的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积fchemical Vapor Deposition，CVD）金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场，以更好地约束等离子体，使等离子体球成为“碟盘”状，提高了等离子体球的密度，在基本参数不变的情况下，沉积面积可由ψ30mm增长到50mm，沉积速度由每小时3．3μm增长到3．8μm，反射电流减小，从而减少了在石英管壁和观察窗的沉积，更好地利用微波能量，有效利用电离的活性基团沉积出高质量的（类）金刚石薄膜。Designed the Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition （MPCVD） diamond film. Use magnetic mirror in quartz tube reaction chamber lens to constraint plasma better. Let plasma to be ＂dish plate＂ sedimentary area to improve the plasma ball density . The basic parameters is constant. Sedimentary area of growth from 30mm to 50mm, deposition rate from 3.3μm to 3.8μm. That reduce attachments on quartz tube and observing window. Effectively use the sedimentary fancies of active functional deposits high quality and large area diamond film.

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积 金刚石膜 磁镜场 

分 类 号：O484[理学—固体物理]