单晶硅片的低温抛光技术  

Cryogenic Polishing Technology of Monocrystalline Silicon Wafer

作　　者：韩荣久[1] 孙恒德[1] 徐德全[1] 张云[2] 王立江[2] 

机构地区：[1]中科院长春光学精密机械研究所 [2]吉林工业大学机械工程学院

出　　处：《光学精密工程》1998年第5期104-109,共6页Optics and Precision Engineering

基　　金：应用光学国家重点实验室基金

摘　　要：介绍了一种光学材料抛光新技术——低温抛光技术。首先把抛光液冷冻成低温抛光模层，并对单晶硅片做抛光实验，实验结果表明这是一种很好的光学材料抛光方法。This paper presents an optical polishing technology cryogenic polishing technology.The polishing liquid is frozen into polisher layer at low temperature at first and then polishing experiments on monocrystalline silicon are taken.It has been shown that this technology is a good new way to polish optical materials.

关 键 词：低温抛光 抛光模层 抛光液 单晶 硅片 

分 类 号：TN305.2[电子电信—物理电子学] TN304.12