检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:陈博[1,2] 王圩[1,2] 张静媛[1,2] 汪孝杰[1,2] 周帆[1,2] 朱洪亮[1,2] 边静[1,2] 马朝华[1,2]
机构地区:[1]国家光电子工艺中心 [2]中国科学院半导体研究所
出 处:《Journal of Semiconductors》1998年第10期793-797,共5页半导体学报(英文版)
摘 要:本文在国内首次报道了采用直接刻蚀有源区技术在应变多量子阱有源区结构基础上制作了1.3μmInGaAsP/InP部分增益耦合DFB激光器,器件采用全MOVPE生长,阈值电流10mA,边模抑制比(SMSR)大于35dB。Abstract μm InGaAsP/InP strained Multi Quantum Well DFB Lasers with complex coupled grating formed by etching through the top 3 ̄4 QWs of active region are reported. The laser structure is grown by all MOVPE and subsequently processed into PBH LD devices. The threshold current is 10mA. The Side Mode Suppression Ratio (SMSR) is more than 35dB. The 70% of uncoating devices are lased in single longitudinal mode.
分 类 号:TN248.4[电子电信—物理电子学] TN304.01
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