气相沉积中电阻真空计的使用问题  

The Use of Resistance Vacuum Gauge in Vapor Deposition

作　　者：石玉龙[1] 彭红瑞[1] 李世直[1] 

机构地区：[1]青岛化工学院等离子体表面技术研究所

出　　处：《真空》1998年第4期42-45,共4页Vacuum

摘　　要：本文叙述了气相沉积中使用电阻真空计遇到的一些问题及解决的方法。Abstract The paper reported how to use the resistance vacuum gauge in vapor deposition.

关 键 词：气相沉积 真空计 电阻真空计 CVD PVD 真空镀膜 

分 类 号：TB772.2[一般工业技术—真空技术] TN305.8[电子电信—物理电子学]