化学机械研磨垫  

出　　处：《集成电路应用》2009年第11期44-44,共1页Application of IC

摘　　要：OPTIVISIONTM 4540化学机械研磨垫的设计目标是在使用寿命内实现低缺陷率和低拥有成本。它使用了独特的聚合物化学组成和细孔结构，以达到使铜阻挡层研磨的缺陷率降至最低，并提供更高的介电层去除率；拥有双孔结构以精确控制研磨，并且在研磨垫使用寿命中提供一致的研磨垫表面。尤其在铜阻挡层研磨方面，与POLITEXTM研磨垫产品相比，它在颤动和微划痕缺陷率方面取得了一个数量级的进步，从而实现了更高的生产良率。

关 键 词：化学机械研磨 使用寿命 缺陷率 设计目标 化学组成 精确控制 孔结构 阻挡层 

分 类 号：TN405.96[电子电信—微电子学与固体电子学] P208[天文地球—地图制图学与地理信息工程]