2008纳米压印光刻国际学术会议  

作　　者：兰红波[1] 

机构地区：[1]山东大学机械工程学院

出　　处：《国际学术动态》2009年第6期53-54,共2页International Academic Developments

摘　　要：2008年9月26～30日，我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，NIL）是一种全新的纳米图形复制方法，目前压印的最小特征尺寸可以达到5nm，NIL较之现行的投影光刻和其他下一代光刻技术，具有高分辨率、超低成本（国际权威机构评估同等制作水平的NIL比传统光学投影光刻至少低一个数量级）和高生产率等特点，

关 键 词：纳米压印光刻 国际学术会议 下一代光刻技术 投影光刻 学术研讨会 图形复制 特征尺寸 高分辨率 

分 类 号：TN305.93[电子电信—物理电子学] O3-27[理学—力学]