金刚石薄膜电子场发射研究进展  

Study Progress of Electron Field Emission Properties from Diamond Films

作　　者：茅东升[1] 赵俊[2] 李炜[2] 王曦[2] 柳襄怀[2] 诸玉坤[3] 周江云[3] 范忠[3] 李琼[3] 徐静芳[3] 

机构地区：[1]中国科学院上海冶金所离子束开放实验室 [2]中国科学院上海冶金研究所离子束开放实验室,上海200050 [3]华东师范大学电子科学技术系,上海200062

出　　处：《材料导报》1998年第6期27-31,共5页Materials Reports

基　　金：国家863计划支持项目

摘　　要：综述了近年来金刚石和类金刚石薄膜电子场发射性能的研究进展。金刚石薄膜是出色的场发射材料,由于其很低的或者是负的电子亲和势(导带能级位于真空能级之上)和良好的化学稳定性,在真空微电子和场发射显示领域具有广阔的应用前景。In this paper ,study progress of field electron emission from diamond and dia- mondlike films are reviewed. Diamond and diamondlike films are excellent field emission materials. They are strong candidates for field emission microcathodes and flat panel displays in field emission because of their low or even negative electron affinity and excellent chemical inertness.

关 键 词：金刚石 薄膜 电子场发射性能 研究进展 制备 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TN304.18[理学—物理]