脉冲激光对非晶硅薄膜晶化现象的影响  

作　　者：宋长青[1] 尹海宏[1] 

机构地区：[1]南通大学电子信息学院

出　　处：《科技信息》2009年第34期I0023-I0023,I0026,共2页Science & Technology Information

基　　金：南通大学自然科学项目资助;项目号:08Z024;07Z040

摘　　要：太阳能是一种新型环保可再生能源,硅太阳能电池是目前太阳能最常见的应用形式。相对晶体硅而言,成本较低的非晶硅薄膜太阳能电池是当前新能源领域研究的热门。非晶硅薄膜的退火工艺是非晶硅太阳能电池生产中的一个重要环节,本文采用石英玻璃作为衬底材料,利用PECVD法沉积非晶硅薄膜,使用YAG激光器对非晶硅薄膜进行退火处理,研究脉冲激光对非晶硅薄膜的晶化现象。实验结果表明,脉冲激光退火工艺可使非晶硅薄膜快速结晶,生成纳米级微晶颗粒,其尺寸满足非晶硅太阳能电池的生产要求。

关 键 词：非晶硅薄膜 PECVD 脉冲 激光退火 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学]