大角度离子注入机的束纯度控制  

Beam Purity Control in The Large Tilt Ion Implanter

作　　者：王迪平[1] 孙勇[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙410111

出　　处：《电子工业专用设备》2011年第1期21-23,共3页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：从大角度离子注入机束线系统设计上的改进出发,对加/减速模式和多电荷注入等情况下的束能量纯度控制进行了阐叙,同时依靠大量的实验,从SIMS的实验数据来验证控制设计的合理性和有效性。This paper starts off improving on the design of the beamline system of the large tilt ion implanter,describes in detail the beam energy purity control for accel/decal model and multiply charged implanting.Simultaneity we depend on large numbers of experiments,from SIMS experiment data to validate control design that is rationality and validity.

关 键 词：大角度离子注入机 加/减速 多电荷 束线系统 束能量纯度 二次离子质谱分析仪(SIMS) 

分 类 号：TN305.3[电子电信—物理电子学]