光学光刻的现状及未来  

作　　者：周崇喜[1] 胡松[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1999年第2期2-4,共3页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：简要概述了光学光刻的现状、目前典型光刻机的技术水平、以及即将推出的新一代光刻机，并总结光学光刻的发展趋势。

关 键 词：光学光刻 光刻机 掩模 半导体设备 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]