激光诱导原子层加工技术  

Laser Induced Atomic Layer Micro-fabrication Technology

作　　者：张玉书[1] 

机构地区：[1]集成光电子国家重点实验室吉林大学实验区

出　　处：《仪器仪表学报》1995年第S1期162-166,共5页Chinese Journal of Scientific Instrument

摘　　要：激光诱导原子层加工技术是近两年提出的新兴微细加工技术，本文对激光诱导原子层外延生长、原子层刻蚀、原子层掺杂等主要技术及其对能带工程的促进作用作了概要介绍。Abstract Laser induced atomic layer microfabrication technology was suggested inrecent years.In this paper laser induced atomic layer epitaxy,atomic layer etching and atom-ic layer dopping technologies were briefly described.

关 键 词：单原子层 激光诱导 微细加工技术 外延生长 原子层外延 能带工程 超晶格 带偏移 准分子激光 刻蚀速率 

分 类 号：TH706[机械工程—仪器科学与技术]