基体温度对碳氮薄膜成分和结构的影响  被引量:1

Effect of Substrate Temperature on the Composition and Structure of Carbon Nitride Thin Films

在线阅读下载全文

作  者:张永平[1] 顾有松[1] 田中卓 常香荣 时东霞[2] 张秀芳 

机构地区:[1]北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083 [2]中国科学院物理所北京真空物理实验室,北京100080

出  处:《北京科技大学学报》2000年第2期160-162,192,共4页Journal of University of Science and Technology Beijing

基  金:国家自然科学基金!19674009

摘  要:采用微波等离子体化学气相沉积法,N_2/CH_4作反应气体,在 Si(100)基体上沉积β-C_3N_4 化合物.使用X射线光电子能谱(XPS)研究了基体温度对碳氮薄膜的成分和结构的影响,结果 表明:随着温度的提高,N/C原子比迅速提高,a一和C_3N_4在薄膜中的比例随之提高,超过一定 的温度后,N/C原子比将会降低.傅立叶变换红外光谱(FT-IR)和喇曼(Raman)谱结果支持 C-N 键的存在.The carbon nitride thin films have been prepared on Si substrates, using N,/CH. as reactive gases, by microwave chemical vapor deposition method. The effect of substrate temperature on the composition and structure of carbon nitride thin films were studied by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). As the substrate temperature increased, the N/C atomic ratios increased rapidly first and then decreased a little after a crucial temperature. Fourier transform infrared (FT-IR) and Raman spectra support the existence of C-N covalent bond.

关 键 词:成分 MPCVD 基本温度 碳氮薄膜 结构 

分 类 号:O484.1[理学—固体物理] TB43[理学—物理]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象