中微公司发布用于22纳米及以下芯片加工的下一代刻蚀设备  

出　　处：《中国集成电路》2011年第8期4-4,共1页China lntegrated Circuit

摘　　要：中微半导体设备（上海）有限公司发布面向22纳米及以下芯片生产的第二代300毫米甚高频去耦合反应离子刻蚀设备——PrimoAD—RIE^TM。基于已被业界肯定的Primo D—RIE^TM刻蚀设备，

关 键 词：刻蚀设备 芯片加工 纳米 半导体设备 反应离子 芯片生产 甚高频 第二代 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]