反应离子

作品数：373被引量：643H指数：11
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泳池水中三卤甲烷的多反应离子监测模式-吹扫捕集-气相色谱质谱测定法
《环境与健康杂志》2025年第3期255-259,共5页蒙华俊 秦依 王帅琦 龙婷 张琳岚 田飞 
铜仁市科技计划项目(202427号)。
目的建立了多反应离子监测模式-吹扫捕集-气相色谱质谱联用技术同时检测泳池水中4种三卤甲烷(THMs,包括三氯甲烷、二氯一溴甲烷、一氯二溴甲烷和三溴甲烷)的方法。方法通过吹扫捕集对水样中的THMs进行提取、富集,经DB-5MSUI色谱柱(30 m...
关键词：三卤甲烷 泳池水 气相色谱-三重四级杆质谱联用法 吹扫捕集 
基于DRIE的太赫兹行波管硅基低损耗慢波结构工艺技术研究
《固体电子学研究与进展》2024年第5期369-373,共5页吴杰 杨扬 刘欣 严可 郑源 冯堃 王政焱 姜理利 黄旼 李忠辉 朱健 陈堂胜 
行波管慢波结构的制造通常采用计算机数字化控制精密机械加工技术。随着工作频率的提升,对慢波结构特征尺寸精度的要求达到微纳米级,导致加工难度大、周期长,成本高昂,一定程度上限制了技术的快速发展。硅基MEMS加工工艺具备优秀的三维...
关键词：太赫兹 慢波结构 低损耗 硅基 MEMS 深反应离子刻蚀(DRIE) 
基于MEMS技术的离子门设计与制备
《微纳电子技术》2024年第10期134-140,共7页任家纬 贾建 高晓光 何秀丽 
国家重点研发计划(2022YFF0708200)。
为了提高小型离子迁移谱仪分辨率,基于微电子机械系统(MEMS)技术设计并制备了Bradbury-Nielsen(BN)离子门。首先简要介绍离子迁移谱仪原理及结构,其次通过SIMION软件对漂移管进行建模,利用统计扩散模拟(SDS)多物理场的仿真程序模拟离子...
关键词：离子门 微电子机械系统(MEMS) 离子迁移谱 有限元仿真 深反应离子刻蚀 
太赫兹真空器件中超深金属慢波结构的微加工技术
《真空科学与技术学报》2024年第9期759-767,共9页姜琪 李兴辉 冯进军 蔡军 潘攀 
大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室基金项目(10249)。
太赫兹真空电子器件物理结构尺寸变化随着波长的减小而减小,对微小结构的尺寸精度与表面粗糙度要求也大大增加。随着器件频率进入到太赫兹频段,慢波结构的深度达到几十微米或者百微米量级,加工的难点主要有:材料为金属,结构超深,表面粗...
关键词：太赫兹真空电子器件 微机电系统 深反应离子刻蚀 紫外−光刻、电铸 慢波结构 
用于E型薄膜制备的双掩膜工艺研究
《压电与声光》2024年第4期505-510,共6页郝一鸣 雷程 王涛龙 余建刚 冀鹏飞 闫施锦 梁庭 
国家重点研发计划资助项目(2023YFB3209100);中央引导地方科技发展资金资助项目(YDZJSX20231B006);山西省重点研发计划资助项目(202302030201001)。
在高温压力传感器中,与C型膜片相比,E型膜片的稳定性强,非线性误差小,相同挠度下灵敏度高。在微机电系统(MEMS)工艺流程中薄膜制备较重要,其形貌结构对传感器的性能影响较大。但E型薄膜的制备过程较难,为制备出形貌良好的E型(硅岛)薄膜...
关键词：双掩膜 E型薄膜 深反应离子刻蚀 刻蚀比 刻蚀形貌 
基于光刻胶修正技术的石英锥形侧壁刻蚀工艺研究
《半导体光电》2024年第4期606-611,共6页刘丹 乌李瑛 沈贇靓 张文昊 刘民 权雪玲 程秀兰 
国家科技部“十四五”重点研发计划“高性能免疫现场检测系统研发”项目(2023YFC2413001)。
基于光刻胶修正技术,采用两步刻蚀法对石英锥形侧壁的刻蚀工艺进行了研究。首先利用Ar,O_(2),CF_(4)气体对光刻胶刻蚀,将光刻胶的垂直侧壁修改为锥形侧壁。然后以此为掩膜实现光刻胶倾斜侧壁向石英材料的转移。两步刻蚀在同一个刻蚀腔...
关键词：石英 光刻胶修正 反应离子刻蚀 倾斜侧壁 
GaAs基底上制备圆孔阵列光栅及其影响因素研究
《桂林电子科技大学学报》2024年第3期323-330,共8页石铸 全保刚 阚强 胡放荣 
国家自然科学基金(62065005,62003107);广西自然科学基金(2018GXNSFAA050043,2020GXNSFDA238019,2020GXNSFBA238012)。
为解决半导体激光器的偏振问题,提出了一种利用泰尔博特位移光刻曝光技术在Ga As衬底上制作周期光栅的方法,并系统研究了工艺参数和抗反射层对制备的周期光栅质量的影响。利用二次光刻工艺和反应离子蚀刻工艺在Ga As衬底上制备圆孔阵列...
关键词：泰尔伯特位移光刻曝光技术 光栅 反应离子蚀刻 电感耦合等离子蚀刻 半导体激光器 
低损耗聚合物光波导反应离子刻蚀工艺的研究
《三门峡职业技术学院学报》2024年第2期134-140,共7页郭琦 尤向阳 
反应离子刻蚀是聚合物光波导制备过程中的一项关键工艺。通过改变射频功率RF、反应腔室压强以及混合气体组成与配比等参数研究对波导刻蚀的影响因素,利用台阶仪、金相显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观测波导形貌,找到了表面毛糙度小、侧...
关键词：RIE刻蚀 聚合物光波导 毛糙度 刻蚀速率 
石英玻璃刻蚀浅锥孔阵列的工艺研究被引量：1
《半导体光电》2024年第3期434-441,共8页乌李瑛 刘丹 权雪玲 程秀兰 张芷齐 高庆学 付学成 徐丽萍 张文昊 马玲 
上海市科技创新行动项目;国家自然科学基金重点项目(62335014);上海交通大学平湖智能光电研究所开放基金(22H010102520);国家科技部“十四五”重点研发计划“高性能免疫现场检测系统研发”项目(2023YFC2413001);2023年上海交通大学决策咨询重点课题项目(JCZXSJA2023-05).
介绍了石英玻璃刻蚀浅锥孔的制备方法。通过紫外接触式光刻系统在石英玻璃上形成光刻胶浅锥孔阵列图案,用电感耦合反应离子刻蚀机(ICP-RIE)进行刻蚀。研究了光刻参数和蚀刻参数(气体流量、气体成分、腔压、ICP功率和偏置功率)对石英玻...
关键词：电感耦合反应离子刻蚀 石英玻璃 干法刻蚀 等离子体 刻蚀倾角 微透镜阵列 锥孔 
基于蓝宝石材料的微结构增透性能研究
《中国激光》2023年第22期63-71,共9页张文妮 曹红超 孔钒宇 张益彬 汪瑞 晋云霞 邵建达 
国家重点研发计划(2020YFA0714500);国家自然科学基金(61875212,U1831211);上海市战略性新兴产业发展专项基金(31011442501217020191D3101001);中国科学院国际合作项目(181231KYSB20200040);中国科学院战略性先导科技专项(A类)资助(XDA25020314)。
针对传统熔石英激光窗口在碱金属蒸气环境下易腐蚀的痛点问题,提出了在蓝宝石材料上制备增透微结构的方法,以实现耐高温、耐腐蚀的高透激光窗口。在理论仿真的基础上,采用干涉曝光与反应离子束刻蚀技术,在蓝宝石基底表面上制备了增透微...
关键词：薄膜 增透微结构 干涉曝光 反应离子束刻蚀 
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