云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 反应离子蚀刻

反应离子蚀刻: 作品数：19被引量：13H指数：3; 导出分析报告; 相关领域：电子电信更多>>; 相关作者：谭振豪闫志国陈抱雪张华杰万珍平更多>>; 相关机构：国际商业机器公司日立环球储存科技荷兰有限公司西门子股份公司中芯国际集成电路制造(上海)有限公司更多>>; 相关期刊：《微细加工技术》《电子科技文摘》《导航与控制》《桂林电子科技大学学报》更多>>; 相关基金：广东省重大科技专项国家自然科学基金宁波市自然科学基金更多>>

GaAs基底上制备圆孔阵列光栅及其影响因素研究: 《桂林电子科技大学学报》2024年第3期323-330,共8页石铸全保刚阚强胡放荣; 国家自然科学基金(62065005,62003107);广西自然科学基金(2018GXNSFAA050043,2020GXNSFDA238019,2020GXNSFBA238012)。; 为解决半导体激光器的偏振问题,提出了一种利用泰尔博特位移光刻曝光技术在Ga As衬底上制作周期光栅的方法,并系统研究了工艺参数和抗反射层对制备的周期光栅质量的影响。利用二次光刻工艺和反应离子蚀刻工艺在Ga As衬底上制备圆孔阵列...; 关键词：泰尔伯特位移光刻曝光技术光栅反应离子蚀刻电感耦合等离子蚀刻半导体激光器

Sub-micrometer-thick and low-loss Ge_(20)Sb_(15)Se_(65) rib waveguides for nonlinear optical devices~: 《Optoelectronics Letters》2015年第3期203-206,共4页李军陈芬沈祥戴世勋徐铁峰聂秋华; supported by the National Natural Science Foundation of China(No.61377061);the Public Project of Zhejiang Province(No.2014C31146);the Young Leaders of the Academic Climbing Project of the Education Department of Zhejiang Province(No.pd2013092);the Natural Science Foundation of Ningbo City(No.2014A610124);the Open Research Fund of the Most Important Specialty "Information and Communication Engineering" of Zhejiang Province(No.XKXL1321);the Magna Fund sponsored by K.C.Wong in Ningbo University of China; We report the fabrication and optical properties of sub-micrometer-thick Ge_(20)Sb_(15)Se_(65)chalcogenide rib waveguides.The radio-frequency(RF)magnetron sputtering method is used to deposit 0.83μm-thick films.A pro...; 关键词：非线性光学器件亚微米波导低损耗肋反应离子蚀刻磁控溅射法光学性质

市场: 《微纳电子技术》2014年第2期138-138,共1页王玲; SPTS科技DRIE模块订单超过1000件 SPTS科技宣布其深反应离子蚀刻（DRIE）模块的订单数量达到了新的里程碑，销量达1000件。该消息在新加坡MEMS论坛上发布，以彰显该国的MEMS市场飞速增长。DRIE是Bosch公司创始人RobertBosch于1994年利...; 关键词：市场 Bosch公司反应离子蚀刻 MEMS 工艺开发商业系统科技新加坡

Reactive ion etching of poly(vinylidene fluoride-trifluoroethylene) copolymer for flexible piezoelectric devices被引量：3: 《Chinese Science Bulletin》2013年第18期2091-2094,共4页JIANG YongGang SHIONO Syohei HAMADA Hiroyuki FUJITA Takayuki ZHANG DeYuan MAENAKA Kazusuke; A microfabrication process for poly(vinylidene fluoride-trifluoroethylene)(P(VDF-TrFE)) based flexible piezoelectric devices is proposed using heat controlled spin coating and reactive ion etching(RIE) techniques.Dry ...; 关键词：反应离子蚀刻压电器件三氟乙烯 P(VDF-TrFE) 偏氟乙烯反应性共聚物 SF6气体

光电印制板(OEPCB)制作工艺浅析被引量：4: 《印制电路信息》2013年第7期63-70,共8页纪成光吕红刚陶伟李民善; 简述了光电印制板的工作原理,介绍了光电印制板用光波导材料及聚合物光波导层成型工艺,并简要介绍了光电印制电路板的测试方法。; 关键词：光电印制板光波导反应离子蚀刻数字喷墨打印技术误码率

采用天然氧化物提高MOSFET截止频率: 《半导体信息》2008年第5期23-24,共2页陈裕权; 关键词：截止频率氧化层厚度相控阵雷达 MOCVD 氧化方法栅电极反应离子蚀刻泄漏问题掩模无线通信

光电印制电路板的发展评述(3)——聚合物光波导层的成型工艺(1)被引量：3: 《印制电路信息》2007年第2期17-20,共4页张家亮; 江苏省科技厅科技发展计划资助;项目编号为BG2005011。; 文章简述了光电印制电路板中聚合物光波导层的制作应该遵循的原则,介绍了光波导层的主要成型工艺,包括反应离子蚀刻、平版影印、激光烧蚀和加热模压等方法。; 关键词：光电印制电路板反应离子蚀刻平版影印激光烧蚀加热模压成型工艺

金属微成形的工艺进展被引量：3: 《锻造与冲压》2006年第6期68-71,共4页雷鹍丁水王长丽王国峰张凯锋; MST.MEMS的产业化极大推动了微细加工技术的发展．先后出现了超精密机械加工、深反应离子蚀刻、LIGA及准LIGA技术、分子装配技术等。但是微型化产业所要求的大批量、高效率、高精度、高密集、短周期、低成本、无污染、净成形等固有特点...; 关键词：工艺进展准LIGA技术微成形微细加工技术超精密机械加工超塑性挤压金属反应离子蚀刻成形工艺产业化

磁约束反应离子蚀刻装置的磁场优化: 《Journal of Semiconductors》2006年第z1期422-425,共4页敬小成姚若河林玉树; 广东省重大科技专项基金资助项目(批准号:A1100501); 应用有限元分析方法建立了多磁极约束磁增强型反应离子蚀刻装置内部的磁场分布模型.通过研究磁极的配置及磁化方向的调整,对蚀刻装置内部磁场的强度及其分布的均匀性进行了优化研究,获得了在兼顾蚀刻速率和蚀刻均匀性的最优工艺要求.; 关键词：反应离子蚀刻磁约束等离子体装置

电源技术: 《电子科技文摘》2005年第12期20-23,共4页; 关键词：电源技术燃料电池交换膜化学性能剩余电量双极板级联型开关变换器反应离子蚀刻电池充电器

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