反应离子束刻蚀

作品数：18被引量：26H指数：3
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相关作者：邵建达吴建宏付绍军程传伟杨卫鹏更多>>
相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学技术大学中国科学院苏州大学更多>>
相关期刊：《应用科学学报》《安徽工程大学学报》《南京大学学报（自然科学版）》《光学学报》更多>>
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基于蓝宝石材料的微结构增透性能研究
《中国激光》2023年第22期63-71,共9页张文妮 曹红超 孔钒宇 张益彬 汪瑞 晋云霞 邵建达 
国家重点研发计划(2020YFA0714500);国家自然科学基金(61875212,U1831211);上海市战略性新兴产业发展专项基金(31011442501217020191D3101001);中国科学院国际合作项目(181231KYSB20200040);中国科学院战略性先导科技专项(A类)资助(XDA25020314)。
针对传统熔石英激光窗口在碱金属蒸气环境下易腐蚀的痛点问题,提出了在蓝宝石材料上制备增透微结构的方法,以实现耐高温、耐腐蚀的高透激光窗口。在理论仿真的基础上,采用干涉曝光与反应离子束刻蚀技术,在蓝宝石基底表面上制备了增透微...
关键词：薄膜 增透微结构 干涉曝光 反应离子束刻蚀 
环境适应性中红外宽带减反射元件的研制被引量：4
《中国激光》2020年第3期48-53,共6页张晗宇 崔云 孙勇 张益彬 王勇禄 周秦岭 邵建达 
通过微结构结合镀膜的方法成功设计和制备了中红外宽带减反射元件。首先,利用FDTD Solutions软件,模拟了微结构周期、占空比、高度以及膜层厚度对所需波段透射率的影响规律,得到较好增透效果的微结构和膜层结构参数;根据设计参数,采用...
关键词：光学器件 减反微结构 时域有限差分法 干涉曝光 反应离子束刻蚀 
全息光刻-反应离子束刻蚀制作硅光栅
《安徽工程大学学报》2019年第6期28-32,45,共6页郑衍畅 王铭 胡华奎 王雅楠 杨春来 王海 
国家自然科学基金资助项目(11705001);安徽省自然科学基金资助项目(1808085QA12,1708085ME105)
全息光刻-反应离子束刻蚀是一种非常重要的制作光栅的方法,而如何解决全息曝光中的驻波问题,提高光栅的制作质量,实现该方法向硅材料等高反射率基底的推广应用是一项急需解决的问题。研究开发了一套完整可行的全息光刻-反应离子束刻蚀...
关键词：硅光栅 全息光刻 反应离子束刻蚀 驻波 感应耦合等离子体刻蚀 
分焦平面像素偏振片阵列的制备研究被引量：1
《黑龙江科学》2017年第20期38-39,共2页于淼 
分焦平面像素偏振片的单元大小为像素尺寸,能够集成到CMOS相机的像元表面,可以实现多方向同时偏振成像探测。利用电子束曝光和ICP反应离子束刻蚀相结合的工艺技术制备了不同周期和特征尺寸的分焦平面像素偏振片阵列,应用扫描电子显微镜...
关键词：分焦平面 像素偏振片 电子束曝光 反应离子束刻蚀 
反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅被引量：2
《真空》2016年第6期54-58,共5页董圣为 邱克强 付绍军 
离子束刻蚀作为真空技术的一种重要应用,已广泛运用于现代微电子器件和微光学器件的制作工艺中。本文结合反应离子束刻蚀与全息光刻技术,针对线密度较低的小阶梯光栅,倾斜刻蚀石英同质掩模,制作了三种在紫外光和可见光波段透射闪耀的小...
关键词：小阶梯光栅 反应离子束刻蚀 闪耀角 衍射效率 
反应离子束刻蚀工艺制作闪耀罗兰光栅
《纳米技术与精密工程》2015年第4期239-243,共5页谭鑫 
国家高技术研究发展计划(863计划)重大资助项目(2010AA1221091001);国家重大科研装备开发专项资助项目(2011YQ120023)
相比类矩形槽罗兰光栅，闪耀罗兰光栅的衍射效率较高，更有利于光谱分析仪器的设计与应用，而国内外尚无产品级闪耀罗兰光栅产品．本文通过类矩形槽形及闪耀槽形的衍射效率优化设计及对比，获得了闪耀槽形优化设计结果；利用反应离子束...
关键词：衍射效率 反应离子束刻蚀 粗糙度 罗兰光栅 
多层介质膜光谱调制反射镜的反应离子束刻蚀误差容限被引量：3
《强激光与粒子束》2009年第5期761-766,共6页李铭 张彬 戴亚平 王韬 范正修 
国家高技术发展计划项目;四川省青年科技基金项目(05ZQ026-013);教育部新世纪优秀人才支持计划项目(NCET-05-0784)
在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与...
关键词：光学器件 光谱整形 多层介质膜光谱调制反射镜 微纳超精细加工 误差容限 
啁啾光纤光栅相位掩模槽形控制新方法研究
《激光杂志》2009年第1期51-52,共2页杨卫鹏 刘全 吴建宏 
在啁啾光纤光栅相位掩模的制作中,针对光刻胶光栅槽形要求比较高的问题,提出离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的方法,来实现对相位掩模槽形占宽比的控制。运用高级线段运动算法模拟分析刻蚀中的图形演化,用Ar离子束刻蚀对光刻胶光栅掩...
关键词：离子束刻蚀 反应离子束刻蚀 槽形模拟 占宽比 
反应离子束蚀刻中的草地现象及其改善
《光学仪器》2008年第5期24-30,共7页王晓松 冀翔 张恒伟 杨国光 范秋虎 时海 
针对波导沟道制作的蚀刻工艺,讨论利用反应离子束蚀刻技术制备波导沟道的工艺条件对面形的影响,对严重影响面型的草地现象形成原因和工艺改善进行实验实践,包括光刻胶、温度效应、二次效应等因素,并提出进行光学稳定、调节离子入射角和...
关键词：反应离子束刻蚀(RIE) 温度效应 二次效应 草地现象 
提高离子束刻蚀亚微米光栅侧壁陡直度的方法被引量：9
《光学学报》2008年第1期189-193,共5页孟祥峰 李立峰 
国家863计划资助课题
现代亚微米光栅的应用通常要求栅脊侧壁陡直。通过比较两种配备不同离子源的刻蚀机的反应离子束刻蚀结果,认为影响亚微米光栅侧壁陡直度的一个重要因素是离子束发散角(束散角),且小束散角有利于获得陡直的光栅侧壁。国内应用最广泛的双...
关键词：物理光学 衍射光栅 亚微米光栅 反应离子束刻蚀 侧壁陡直度 
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