基于SEMI标准的半导体工艺设备功能仿真系统设计  

Design of Semiconductor Manufacturing Equipment Function Simulation System Based on SEMI Standard

作　　者：王巍[1,2] 邹龙庆[1,2] 徐华 李搏[1,2] 贾培发[2] 李垒[1,2] 

机构地区：[1]重庆邮电大学光电工程学院,重庆南岸区400065 [2]清华大学清华信息科学与技术国家实验室,清华大学智能技术及系统国家重点实验室,清华大学计算机科学与技术系,北京海淀区100084

出　　处：《电子科技大学学报》2012年第4期599-604,共6页Journal of University of Electronic Science and Technology of China

基　　金：02号国家科技重大专项(2009ZX02001-003);国家自然科学基金(60875073)

摘　　要：设计实现了一个基于SEMI标准的半导体工艺设备仿真平台,该平台具有通用可配置特性。在该平台的基础上,构建了一套基于SEMI标准的气路功能仿真系统,该气路仿真系统包含了功能层、逻辑层和外部通信接口层,既能满足单独设备的功能仿真需求,也能对整个系统的功能进行仿真验证。该系统实现了对物理气相沉积(PVD)系统中,气路中阀门的闭合动作及气流变化等的实时仿真分析。A general and configurable simulation platform based on SEMI standard is designed. On this general platform, a gas pressure subsystem simulation platform is implemented, which has the function layer, logic layer and communication interface layer. This system can meet the needs of both a single device and a whole system. Results show that the operation of the valve and the change of the gas flow in physical vapor deposition （PVD） system can be simulated in real time.

关 键 词：功能仿真 物理气相沉积系统 半导体工艺设备 SEMI标准 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学] TP39[自动化与计算机技术—计算机应用技术]