HFCVD法沉积金刚石薄右热丝优化方法  

作　　者：宋雪梅 张生俊 

机构地区：北京工业大学材料科学与工程学院

出　　处：《人工晶体学报》2000年第3期269-274,共6页Journal of Synthetic Crystals

摘　　要：本文探讨了在ＨＦＣＶＤ（ｌｏｔ ｆｉｌａｍｅｎｔ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｏｉｎ）沉积金刚石薄膜中热丝数量、位置等几何参数对温度温度场和辐射场的影响。利用系统热传递和计算机辅助的数值解方法得到了该方法沉积大面积金 汪膜中衬底表面温度分布和热辐射能量密度分布。发现金刚石薄膜的均匀性受热辐射能量密度分布影响较大。进一步给出了沉积面积为１００ｍｍ×１００ｍｍ的金刚石薄膜的最佳参数。

关 键 词：金刚石薄厝 CVD 热丝法 HFCVD 沉积 衬底 

分 类 号：TQ163[化学工程—高温制品工业] O782