1.5μm双层布线Ｎ阱CMOS工艺研究  

作　　者：陈计学[1] 

机构地区：[1]中国兵器工业第214研究所

出　　处：《集成电路通讯》2000年第2期1-2,,14,,共3页

摘　　要：给出了１．５μｍ双层布线Ｎ阱ＣＭＯＳ工敢研究流程，叙述了研究中一些关键技术。

关 键 词：N阱CMOS 双层布线 PMOS 光刻 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]