基于Cu_xSi_yO阻变材料的RRAM抗总剂量辐照性能  

Radiation Tolerance against TID Effect of Cu_xSi_yO-based RRAM

作　　者：朱伟[1] 简文翔[1] 薛晓勇[1] 林殷茵[1] 

机构地区：[1]复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海201203

出　　处：《复旦学报（自然科学版）》2013年第3期292-296,共5页Journal of Fudan University：Natural Science

基　　金：国家"863"高技术研究发展计划资助项目(2008AA031401;2011AA010404);国家自然科学基金资助项目(2011ZX02502);上海市自然科学基金重点项目(12XD1400800)

摘　　要：研究了基于CuxSiyO结构的阻变式随机存储器(RRAM)的抗总剂量辐照能力.存储器芯片置于钴源辐照室内,通过60 Co释放出的γ射线模拟空间辐照环境.在辐照总剂量达到3 000Gy的条件下,单元仍然可以保持原有的存储信息,高低阻态的阻值、写电压、良率等性能几乎没有任何衰减.良好的辐照特性使得RRAM有望在抗辐射领域中得到广泛应用.Radiation tolerance against TID effect has been investigated on the CuxSiyO-based resistive random access memory（RRAM）.Cobalt-60 γ ray is used to simulate the space radiation environment.The stored information could remain when total dose is cumulated as high as 3000 Gy.Little degradation is shown for cell resistance,write voltage and yield.The good radiation characteristic makes the device promising for the application in radiation harsh environments.

关 键 词：阻变式随机存储器 总剂量辐照 CuxSiyO 60Coγ射线 

分 类 号：TN407[电子电信—微电子学与固体电子学]