二元光学元件的制作及其误差分析  

Fabrication and Error Analysis' of Binary Optical Elements

作　　者：李思涛[1] 叶嘉雄[1] 阮玉[1] 徐启阳 郭志霞 

机构地区：[1]华中科技大学光电子工程系,武汉430074

出　　处：《光电子技术与信息》2000年第5期24-29,共6页Optoelectronic Technology & Information

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法．针对用于ＣＯ２激光器模式优化的二元光学反射镜，分析了元件制作误差，包括掩模对准误差、台阶刻蚀深度误差和台阶刻蚀宽度误差对谐振腔振荡模式的影响．The photolithography, thin-film deposition, electron beam writing, laser direct writing and excimer laser projection are introduced for binary optics fabrication. Aiming at a binary optical mirror, by which the modes of a CO2 laser could be optimized, this paper analyses the fabrication errors of binary optical elements such as step width error, etching depth error and mask offset error, and discusses the influence of fabrication errors on laser operation.

关 键 词：二元光学元件 光刻 掩模 误差 微电子 

分 类 号：TN25[电子电信—物理电子学]