《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行  

机构地区：[1]真空杂志社

出　　处：《真空》2013年第5期13-13,共1页Vacuum

摘　　要：由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积（CVD）、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。

关 键 词：真空镀膜设备 真空镀膜技术 出版发行 ITO导电玻璃 非平衡磁控溅射 真空蒸发镀膜 溅射镀膜 化学气相沉积 

分 类 号：TN305.8[电子电信—物理电子学]