SU-8 5光刻胶的应用工艺研究  

Study on Application technology of SU-8 5 Photo Resist

作　　者：朱军[1] 赵小林[1] 倪智萍[1] 

机构地区：[1]上海交通大学信息存储研究中心,上海200030

出　　处：《微细加工技术》2001年第2期57-60,共4页Microfabrication Technology

摘　　要：SU 8系列负性光刻胶是一种新品光刻胶 ,它具有良好的光敏性和高深宽比 ,适合于微机电系统 ,UV LIGA和其它厚膜、超厚膜应用[1,2 ] 。介绍了利用SU 85光刻胶 ,采用UV曝光制备LIGA掩模板所涉及的SU 85工艺研究结果。SU-8 series photo resist is a new epoxy-negative-tone resist product.It has good light sensitivity and high aspect ratio.It is suited to application in MEMS system,UV-LIGA and other thick and ultra-thick films.The processing results related to fabricate LIGA mask using SU-8 5 resist and UV exposure system are reported.

关 键 词：微机电系统 SU-8系列 光刻胶 曝光 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]