甲基丙烯酸甲酯共聚物作为LIGA抗蚀剂的研究  

Investigation of methyl methacrylate copolymers as the resist in LIGA process

作　　者：陈永明[1] 彭良强[2] 陈传福[1] 伊福廷[1] 习复[1] 

机构地区：[1]中国科学院化学研究所,北京100080 [2]中国科学院高能物理研究所,北京100039

出　　处：《微细加工技术》2001年第3期64-67,共4页Microfabrication Technology

基　　金：国家基金委资助项目 (5 94 730 11)

摘　　要：设计合成了具有头 -头结构的甲基丙烯酸甲酯共聚物以及含大空间侧基的甲基丙烯酸甲酯共聚物 ,研究了它们作为LIGA技术用抗蚀剂的光敏性能 ,结果表明适当大小空间侧基的引入 ,有助于改善甲基丙烯酸甲酯型抗蚀剂的光敏性。Copolymers of methyl methacrylate which have the 'head to head'structure in the main chains or bulk ester groups in the side chains are synthesized.Their sensitivities in deep?etch synchrotron radiation lithography are investigated.The results show that the sensitivity could be improved with introducing suitable bulk ester groups into the side chain in copolymers.

关 键 词：甲基丙烯酸甲酯共聚物 光刻工艺 LIGA 抗蚀剂 光敏性 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]